纳米二氧化硅
Silicon dioxide
- 硅氧,硅土,硅酐，白炭黑，水晶,石英,硅石,氧化硅
规格与价格
产品参数
- 货号
- N1721
- 英文名称
- Silicon dioxide
- 分子式
- SiO2
- 分子量
- 60.08
- MDL 号
- MFCD00011232
- EINECS 号
- 262-373-8
- 产地
- 湖南
资料与合规
随货提供质检报告（COA），可按需提供安全技术说明书（SDS）。
性状描述: 无色透明结晶或无定形粉末。无臭。无味。热膨胀系数是已知物质中最小的。熔融物呈玻璃状。溶于过量氢氟酸生成四氟化硅气体。能被热的浓磷酸侵蚀。几乎不溶于水或其他酸。无定形粉末能在浓碱溶液中缓慢溶解。能与熔融的碱类起作用,生成可溶性硅酸盐。相对密度2.2(无定形)、(d0)2.65(石英)。熔点1710℃(方石英)、1670℃(鳞石英)。有刺激性。(市售石英砂为白色细小颗粒结晶的二氧化硅)。
质量标准: Q/(HG)SJ 510-91(轻质)
项目ltem 分析纯 化学纯
(AR) (CP)
灼烧失重Ignition loss,% ≤ 1.5 3.0
氯化物(Cl)Chloride,% ≤ 0.001 0.005
铁(Fe)Iron,% ≤ 0.002 0.005
氢氟酸不挥发物Novolatile
in hydrofluoric acid,% ≤ 0.2 0.5
项目ltem 分析纯 化学纯
(AR) (CP)
粒度(270目)Granisize,% ≥ 90 90
含量(SiO2)Assay,% ≥ 99.5 99.0
灼烧失重Ignition loss,% ≤ 2.0 3.0
氯化物(Cl)Chloride,% ≤ 0.001 0.005
铁(Fe)Iron,% ≤ 0.002 0.005
项目ltem 分析纯 化学纯
(AR) (CP)
水可溶性物Soluble matter
in water,% ≤ 0.2 0.5
氢氟酸中不挥发物Novolatile
in hydrofluoric acid,% ≤ 1.0 2.0
干燥失重Drying loss,% ≤ 7.0 10.0
氯化物(Cl)Chloride,% ≤ 0.005 0.01
硫酸盐(以SO4计)Sulfale,% ≤ 0.005 0.01
钙(Ca)Calcium,% ≤ 0.005 0.01
铁(Fe)Iron,% ≤ 0.005 0.01
重金属(以Pb计)Heavy metals,% ≤ 0.005 0.01
99.5%,30±5nm ：
外观Appearance (Color) 类白色粉末
干燥损失Loss on Ignition (1100 °C, 1 Hr) ≤2.0 %
纯度Purity ≥99.5% (GC)
Size 50±5nm
ICP: Confirms Silicon Component Confirmed
Trace Metal Analysis ≤5000.0 ppm
99.99%:
外观Appearance (Color) 类白色粉末
干燥损失Loss on Ignition (1100 °C, 1 Hr)≤1.0 %
纯度Purity ≥99.99%
ICP: Confirms Silicon Component Confirmed
Trace Metal Analysis ≤200.0 ppm
亲水气相二氧化硅Hydrophilic-150型（HL-150）：*
比表面积Specific surface area (BET) m2/g 150±15
悬浮液pH值（4%）pH-value in 4% dispersion 3.7～4.5
干燥失重Loss on drying ( 105℃干燥2小时 ) % ≤1.5
灼烧减量Loss on ignition(1000℃燃烧 2h ，基于105℃干燥2h后产物 ) % ≤1.5
粒径particle size 7～40nm
晒余物Sieve residue (45μm) % ≤0.04
二氧化硅含量Silica content (基于灼烧后产物) % ≥99.8
表现密度Tamped density (基于105℃干燥2h后产物) 40～60g/L
碳含量Carbon content (基于105℃干燥2h后产物 ), % ≤0.15
亲水气相二氧化硅Hydrophilic-200型（HL-200）：*
比表面积Specific surface area (BET) m2/g 200±20
悬浮液pH值（4%）pH-value in 4% dispersion 3.7～4.5
干燥失重Loss on drying ( 105℃干燥2小时 ) % ≤2.0
灼烧减量Loss on ignition(1000℃燃烧 2h ，基于105℃干燥2h后产物 ) % ≤2.0
粒径particle size 7～40nm
晒余物Sieve residue (45μm) % ≤0.04
二氧化硅含量Silica content (基于灼烧后产物) % ≥99.8
表现密度Tamped density (基于105℃干燥2h后产物) 40～60g/L
碳含量Carbon content (基于105℃干燥2h后产物 ), % ≤0.15
亲水气相二氧化硅Hydrophilic-200B型（HL-200B）：比表面积为200m2/g *
是一种高纯度和低氯化物含量的白色粉末
比表面积Specific surface area (BET) m2/g 200±20
悬浮液pH值（4%）pH-value in 4% dispersion 3.7～4.5
干燥失重Loss on drying ( 105℃干燥2小时 ) % ≤2.0
灼烧减量Loss on ignition(1000℃燃烧 2h ，基于105℃干燥2h后产物 ) % ≤2.0
粒径particle size 7～40nm
晒余物Sieve residue (45μm) % ≤0.02
二氧化硅含量Silica content (基于灼烧后产物) % ≥99.8
表现密度Tamped density (基于105℃干燥2h后产物) 40～60g/L
碳含量Carbon content (基于105℃干燥2h后产物 ), % ≤0.15
氯化物含量Chloride content(基于105℃干燥2h后产物 ),0.0125
亲水气相二氧化硅Hydrophilic-300型（HL-300）：*
比表面积Specific surface area (BET) m2/g 300±25
悬浮液pH值（4%）pH-value in 4% dispersion 3.7～4.5
干燥失重Loss on drying ( 105℃干燥2小时 ) % ≤2.5
灼烧减量Loss on ignition(1000℃燃烧 2h ，基于105℃干燥2h后产物 ) % ≤2.5
粒径particle size 7～40nm
晒余物Sieve residue (45μm) % ≤0.04
二氧化硅含量Silica content (基于灼烧后产物) % ≥99.8
表现密度Tamped density (基于105℃干燥2h后产物) 40～60g/L
碳含量Carbon content (基于105℃干燥2h后产物 ), % ≤0.15
亲水气相二氧化硅Hydrophilic-380型（HL-380）：*
比表面积Specific surface area (BET) m2/g 380±20
悬浮液pH值（4%）pH-value in 4% dispersion 3.7～4.5
干燥失重Loss on drying ( 105℃干燥2小时 ) % ≤2.5
灼烧减量Loss on ignition(1000℃燃烧 2h ，基于105℃干燥2h后产物 ) % ≤2.5
粒径particle size 7～40nm
晒余物Sieve residue (45μm) % ≤0.04
二氧化硅含量Silica content (基于灼烧后产物) % ≥99.8
表现密度Tamped density (基于105℃干燥2h后产物) 40～60g/L
碳含量Carbon content (基于105℃干燥2h后产物 ), % ≤0.15
疏水气相二氧化硅Hydrophobic-115型（HB-215）：*
比表面积Specific surface area (BET) m2/g 115±15
悬浮液pH值（4%）pH-value in 4% dispersion 3.7～4.5
(水和乙醇按照1:1比例混合)
干燥失重Loss on drying ( 105℃干燥2小时 ) wt% ≤0.5
灼烧减量Loss on ignition(1000℃燃烧 2h ，基于105℃干燥2h后产物 ) wt% ≤2.5
粒径particle size 7～40nm
晒余物Sieve residue (45μm) % --
二氧化硅含量Silica content (基于灼烧后产物) wt% ≥99.8
表现密度Tamped density (基于105℃干燥2h后产物) 25～60g/L
碳含量Carbon content (基于105℃干燥2h后产物 ), wt% 0.6 ～1.2
疏水气相二氧化硅Hydrophobic-170型(HB-220型）：*
比表面积Specific surface area (BET) m2/g 170±20
悬浮液pH值（4%）pH-value in 4% dispersion 3.7～4.5
(水和乙醇按照1:1比例混合)
干燥失重Loss on drying ( 105℃干燥2小时 ) wt% ≤0.5
灼烧减量Loss on ignition(1000℃燃烧 2h ，基于105℃干燥2h后产物 ) wt% ≤2.5
二氧化硅含量Silica content (基于灼烧后产物) wt% ≥99.8
表现密度Tamped density (基于105℃干燥2h后产物) 40～60g/L
碳含量Carbon content (基于105℃干燥2h后产物 ), wt% 0.7 ～1.3
疏水气相二氧化硅Hydrophobic-120型(HB-615)：*
比表面积Specific surface area (BET) m2/g 120±15
悬浮液pH值（4%）pH-value in 4% dispersion 5.5～7.5
(水和乙醇按照1:1比例混合)
干燥失重Loss on drying ( 105℃干燥2小时 ) wt% ≤0.5
灼烧减量Loss on ignition(1000℃燃烧 2h ，基于105℃干燥2h后产物 ) wt% ≤4.0
二氧化硅含量Silica content (基于灼烧后产物) wt% ≥99.8
表现密度Tamped density (基于105℃干燥2h后产物) 40～60g/L
碳含量Carbon content (基于105℃干燥2h后产物 ), wt% 1.0 ～2.0
疏水气相二氧化硅Hydrophobic-230型(HB-630)：*
比表面积Specific surface area (BET) m2/g 230±25
悬浮液pH值（4%）pH-value in 4% dispersion 5.5～8.0
(水和乙醇按照1:1比例混合)
干燥失重Loss on drying ( 105℃干燥2小时 ) wt% ≤0.5
灼烧减量Loss on ignition(1000℃燃烧 2h ，基于105℃干燥2h后产物 ) wt% ≤4.0
二氧化硅含量Silica content (基于灼烧后产物) wt% ≥99.8
表现密度Tamped density (基于105℃干燥2h后产物) 40～60g/L
碳含量Carbon content (基于105℃干燥2h后产物 ), wt% 2.5 ～4.0
疏水气相二氧化硅Hydrophobic-100型(HB-720)：*
比表面积Specific surface area (BET) m2/g 100±30
悬浮液pH值（4%）pH-value in 4% dispersion 4.0～6.0
(水和乙醇按照1:1比例混合)
干燥失重Loss on drying ( 105℃干燥2小时 ) wt% ≤0.6
灼烧减量Loss on ignition(1000℃燃烧 2h ，基于105℃干燥2h后产物 ) wt% ≤6.0
二氧化硅含量Silica content (基于灼烧后产物) wt% ≥99.8
表现密度Tamped density (基于105℃干燥2h后产物) 50～90g/L
碳含量Carbon content (基于105℃干燥2h后产物 ), wt% 3.5 ～5.0
99.999%
外观Appearance White powder
灼烧失重Loss on Ignition ≤2.00 %(1000 Deg C, 1 Hour)
ICP: Confirms Silicon Component Confirmed
痕量金属Trace Metal Analysis ≤10.0 ppm
纯度Purity（metal basis) ≥99.999 %
备注：疏水性二氧化硅产品是由亲水型气相二氧化硅通过HMDS(六甲基二硅氮烷)处理后疏水气相二氧化硅，是一种高纯度的白色粉末。
储存条件: 密封保存。
用途: 硅标准液。水玻璃,硅的化合物的制备材料。在晶体管和集成电路中作杂质扩散的掩蔽膜和保护层,制成二氧化硅膜作集成电路器件。玻璃工业。